商傳媒｜何映辰／台北報導
隨著人工智慧（AI）技術快速發展，對先進晶片的需求也日益增長，帶動了半導體供應鏈上游企業的蓬勃發展。在這波AI浪潮中，晶圓代工龍頭臺灣積體電路製造公司（台積電，TSMC）與極紫外光（EUV）微影設備獨家供應商荷蘭艾司摩爾（ASML），兩家巨頭在半導體產業鏈中的關鍵地位與投資價值備受市場分析師關注。
台積電：AI晶片製造核心，擴大全球布局
台積電執行長魏哲家預期，AI晶片的需求將至少強勁成長到 2029 年至 2030 年，甚至可能因新產業的形成而持續更久。作為全球最大的專業晶圓代工製造商，台積電在去年（2025年）生產超過 12,600 種不同產品，並採用 305 種不同的製程技術，市佔率高達約 73%。
為分散生產基地並應對地緣政治風險，根據《Aol.com》報導指出，台積電已宣布對其位於美國亞利桑那州的生產設施追加 1,000 億美元投資，使其在該州的總投資額達到 2,650 億美元。這項擴張計畫將支援先進封裝廠及該公司最尖端的 2 奈米製程技術。台積電最先進的 2 奈米製程，能提供更高的電路密度與能源效率，並在最近一季首次貢獻營收；而 3 奈米及 5 奈米技術，則已佔其總營收的逾六成。目前台積電的預估本益比為 23.5 倍。
財務表現方面，台積電近五年的淨利成長了 251%，營收增長 165%。在今年第二季，台積電營收達 402 億美元，年增 33.7%，淨利率更高達 55.6%，顯示其強勁的獲利能力與市場領導地位。
艾司摩爾：微影設備獨家供應商，掌握製程核心技術
在晶片製造的過程中，艾司摩爾扮演著不可或缺的角色。這家荷蘭公司生產先進的微影設備（lithography machines），這是半導體製程中，用於在矽晶圓上刻畫微小電路圖案的關鍵步驟。艾司摩爾提供的設備包括深紫外光（DUV）和極紫外光（EUV）微影機台，其中EUV機台因採用反射鏡而非透鏡，在實現更精確的晶片蝕刻方面擁有獨家優勢，成為製造先進晶片的關鍵設備。
艾司摩爾執行長克里斯托弗·富凱表示，持續的AI相關投資以及AI技術的進展，正推動對先進邏輯與記憶體晶片的需求，進一步鞏固了半導體產業的成長前景，也讓客戶持續加速擴張產能，為艾司摩爾帶來了可預見的長期需求。
財務數據顯示，艾司摩爾過去五年的淨利和營收都增長超過九成。今年第二季，艾司摩爾共售出 86 台新微影設備和 5 台二手設備，相較去年同期的 67 台新機與 12 台二手設備有所成長。當季營收達 93.2 億歐元（約 106.9 億美元），年增 11%，淨利潤為 29.1 億歐元（約 31.6 億美元），年增 5.8%，毛利率則保持在 54%。
兩強並進，共同驅動AI時代
台積電與艾司摩爾作為半導體產業鏈中關鍵環節的兩大巨頭，其業務模式存在顯著差異。台積電專注於晶圓代工服務，直接負責將設計圖轉化為實體晶片；而艾司摩爾則透過提供高精度設備，支援台積電等晶圓製造商進行生產。儘管商業模式不同，兩者皆從AI需求的爆發中受益良多，且其股價表現近五年來均超越納斯達克綜合指數。市場分析普遍認為，憑藉台積電在晶片製造的領先地位、擴張計畫及先進技術，使其在半導體供應鏈中更具優勢，成為推動AI發展不可或缺的核心力量。
【提醒您】
投資有賺有賠，本文僅供參考，不構成投資建議
