CNEWS匯流新聞網記者張孝義／台北報導
台積電竹科廠的工程師陳力銘、吳秉駿、戈一平涉嫌違規取得2奈米晶片製程技術機密並疑外流至國外，經台灣高檢署智財分署去年8月27日依違反國家安全法、營業秘密法等起訴；經深入追查，發現另有陳姓及盧姓前員工涉案，今（5）日追加起訴陳力銘及陳男、盧男。
檢察官並分別求處陳力銘有期徒刑7年、被告陳男有期徒刑8年8月，被告盧男有期徒刑1年，及對被告東京威力公司求處罰金新台幣2500萬元。
檢方起訴指出，檢察官於前案偵辦中，為釐清東京威力公司是否符合國家安全法第8條第7項後段所稱「盡力為防止行為」之要件，經查發覺該公司雲端硬碟內，尚存有台積公司之國家核心關鍵技術項次19，即「14奈米以下製程之IC製造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術」等營業秘密資料。
智財分署於是在114年11月10日，指揮法務部調查局新竹市調查站，持法院核發之搜索票執行搜索，並約詢、訊問被告陳男，於同日向法院聲請羈押被告陳男並禁止通信接見獲准。
此外，陳力銘於偵查中，經提示相關事證後即主動坦承犯行，並供出共犯被告陳男，因而得以順利查獲，爰求處有期徒刑7年；如審理中法院認其符合國家安全法第8條第6項減輕其刑之規定，並請依法減輕其刑。被告陳男犯後迄今未完全坦認犯行，態度欠佳，爰予求處有期徒刑8年8月。被告盧男於知悉被告陳力銘遭台積公司發覺犯行後，為圖卸責，刪除被告陳力銘上傳之相關檔案，即本案之犯罪證據，足認其有妨害刑事案件調查之犯行，且犯後仍否認犯行，爰求處有期徒刑1年。至被告東京威力公司於本案查證過程中，均能依檢察官要求提供相關事證，配合調查，對於釐清案情尚有助益，爰依法求處罰金2500萬元。
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